二氧化硅消光粉高速膠體磨

光用二氧化硅膠體磨，二氧化硅消光粉膠體磨，消光粉濕法膠體磨，微納米二氧化硅膠體磨，粒度均勻超微消光粉膠體磨，管線式高速膠體磨，化工用消光粉膠體磨，立式分體消光粉膠體磨

二氧化硅消光粉外觀為白色分散性粉末狀或顆粒狀，廣泛應(yīng)用于涂料工業(yè)。通過(guò)對(duì)其粒徑大小、粒徑分布和表面性能的控制，消光粉能夠?yàn)椴煌耐苛虾陀∷⒂湍峁┏錾膯」庑ЧＯ夥劬哂泻芨叩南庑屎退谋砻媸指?，平均粒徑小且集中?/span>

在傳統(tǒng)膠體磨基礎(chǔ)上改進(jìn)，不僅使轉(zhuǎn)速由原來(lái)的3000轉(zhuǎn)提升到了14000轉(zhuǎn)，甚至是21000轉(zhuǎn)的超高轉(zhuǎn)速，細(xì)碎效果更好，作用效率更快，同時(shí)在結(jié)構(gòu)是除了原本有的細(xì)碎研磨功能以外，更增設(shè)了高速離心分散功能，使物料在細(xì)碎過(guò)后能夠更加穩(wěn)定的分散，不分層，不沉淀。 改進(jìn)型膠體磨依靠定轉(zhuǎn)子間間隙（間隙可調(diào)）使物料在通過(guò)研磨區(qū)域使受到強(qiáng)大的機(jī)械力、液力剪切、高頻振動(dòng)等多重力的物理作用，被高效快速的剪切剝離、分散、粉碎，隨后進(jìn)過(guò)第二級(jí)高速剪切分散盤(pán)再一次剪切細(xì)化分散、勻化，達(dá)到物料超細(xì)粉碎和分散勻化的效果。

1、耐有機(jī)溶劑、耐腐蝕； 
2、材質(zhì)為316L不銹鋼； 
3、設(shè)備定轉(zhuǎn)子（研磨分散工作腔體）間間隙可調(diào)，粒度可控； 
4、設(shè)備整體機(jī)身夾套設(shè)計(jì)，高轉(zhuǎn)速產(chǎn)生的熱量可以通過(guò)外接冷卻設(shè)備進(jìn)行控溫； 
5、主軸與電機(jī)分體設(shè)計(jì)，用戶(hù)可根據(jù)需要選擇適當(dāng)?shù)霓D(zhuǎn)速； 
6、設(shè)備為變頻調(diào)速，可通過(guò)變頻控制柜合理準(zhǔn)確的調(diào)節(jié)設(shè)備轉(zhuǎn)速； 
7、可靈活設(shè)計(jì)生產(chǎn)過(guò)程中的特殊需求（設(shè)備表面光潔度、真空、防爆、設(shè)備材質(zhì)）； 
8、從實(shí)驗(yàn)室設(shè)備平穩(wěn)過(guò)渡到中試型實(shí)驗(yàn)以及后期的工業(yè)化放大實(shí)驗(yàn)，無(wú)需重新調(diào)整實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)，程度降低了風(fēng)險(xiǎn) 

研磨分散機(jī)是由膠體磨分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品。

一級(jí)由具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的轉(zhuǎn)子之間距離。在增強(qiáng)的流體湍流下。凹槽在每級(jí)口可以改變方向。
第二級(jí)由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好的滿(mǎn)足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子（乳化頭）和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計(jì)的不同主要是因?yàn)樵趯?duì)輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類(lèi)型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列，還有一個(gè)很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學(xué)征不一樣。狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。

以下為型號(hào)表供參考：

二氧化硅消光粉高速膠體磨