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產(chǎn)品展示/ Product display

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負載催化劑高速均質(zhì)分散機

負載催化劑高速均質(zhì)分散機轉(zhuǎn)子速度可以達到44m/s。在該速度范圍內(nèi),由剪切力所造成的湍流結(jié)合專門研制的電機可以使粒徑范圍小到納米級。剪切力更強,乳液的粒徑分布更窄。

  • 產(chǎn)品型號:XMD2000
  • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • 更新時間:2023-11-13
  • 訪  問  量:1455
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詳細介紹

負載催化劑高速均質(zhì)分散機

為了避免納米粒子的聚集和催化活性的降低,開發(fā)新型碳載體以促進催化劑的電化學(xué)性能也引起了越來越多的關(guān)注。碳納米管(CNTs),碳納米纖維(CNFs),碳納米線圈,有序介孔碳(OMCs)和石墨烯等碳材料具有順序結(jié)構(gòu)和高導(dǎo)電性,可以顯著提高Pt基催化劑的性能。

具有優(yōu)良結(jié)構(gòu)穩(wěn)定性,電性能和強界面偶聯(lián)的分層MoS2/Ti3C2-MXene@C納米材料通過將碳涂覆的少量層狀MoS2納米片組裝在碳穩(wěn)定的Ti3C2MXene上來制備,表現(xiàn)出非常好的析氫反應(yīng)性能(HER),在酸性溶液中具有正向起始電位,低過電位和長時間穩(wěn)定性。通過相互擴散輔助方法將二苯基二甲酸1,4-苯二甲酸酯與Ti3C2Tx納米片的混合材料施加在具有10mA cm-2電流密度的OER中,電勢為1.64V,相對于可逆氫電極在0.1M KOH中的Tafel斜率為48.2mV dec-1。由于Ti2C與g-C3N4之間有效的協(xié)同作用,合成了一種由二維碳化鈦(Ti2C)和石墨氮化碳(g-C3N4)組成的新型光催化劑,以提高水 活性。這些研究表明,與原始的Ti3C2Tx納米片相比,載有電催化活性組分的Ti3C2Tx納米片顯示出 的電催化性能。

一種負載型催化劑的制備方法,包括以下步驟:

提供載體和催化劑前驅(qū)體在溶劑中的混合分散液;將混合分散液采用等離子體進行照射,即得;所述溶劑包括氧源溶劑和水,所述氧源溶劑為醇類化合物;所述催化劑前驅(qū)體為可溶于水的過渡金屬元素化合物。

所述混合分散液的制備方法包括:將催化劑前驅(qū)體溶于水制得催化劑前驅(qū)體溶液;將載體分散在氧源溶劑中得到載體分散液;將載體分散液與催化前驅(qū)體分散液混勻,即得。

高速剪切均質(zhì)分散機主要應(yīng)用于處理大量生成超細懸乳液。由于同時用三個均質(zhì)頭(轉(zhuǎn)子和定子)進行處理,可獲得很窄的粒徑分布,獲得更小的液滴和顆粒,因而生成的混合液的穩(wěn)定性 。分散頭容易更換,適合于各種不同的應(yīng)用。不同的機器都有相同的轉(zhuǎn)速和剪切率,這樣便于規(guī)模擴產(chǎn)。符合CIP和SIP的清潔標準,因此特別適合于食和藥品生產(chǎn)。

研磨分散機是由膠體磨分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。

級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的轉(zhuǎn)子之間距離。在增強的流體湍流下。凹槽在每級口可以改變方向。
第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好的滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設(shè)計的不同主要是因為在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學(xué)征不一樣。狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。

以下為型號表供參考:

型號

標準流量

L/H

輸出轉(zhuǎn)速

rpm

標準線速度

m/s

馬達功率

KW

進口尺寸

出口尺寸

XMD2000/4

400

18000

44

4

DN25

DN15

XMD2000/5

1500

10500

44

11

DN40

DN32

XMD2000/10

4000

7200

44

22

DN80

DN65

XMD2000/20

10000

4900

44

45

DN80

DN65

XMD2000/30

20000

2850

44

90

DN150

DN125

XMD2000/50

60000

1100

44

160

DN200

DN150

高的轉(zhuǎn)速和剪切率對于獲得超細微懸浮液是 重要的。根據(jù)一些行業(yè)特殊要求,希德2000系列的基礎(chǔ)上又開發(fā)出XMD2000 速剪切均質(zhì)機。其剪切速率可以超過13,000 rpm,轉(zhuǎn)子的速度可以達到40m/s。在該速度范圍內(nèi),由剪切力所造成的湍流結(jié)合專門研制的電機可以使粒徑范圍小到納米級。剪切力 ,乳液的粒經(jīng)分布 窄。由于能量密度 ,無需其他輔助分散設(shè)備。

分散機采用博格曼雙端面機械密封,在保證冷卻水的前提下,可24小時連續(xù)運行。而普通乳化機很難做到連續(xù)長時間的運行,并且普通乳化機不能承受高轉(zhuǎn)速的運行??梢蕴幚砹看?,運轉(zhuǎn) 平穩(wěn),拆裝 方便,適合工業(yè)化在線連續(xù)生產(chǎn),粒徑分布范圍窄,分散效果佳,*,物料 通過分散剪切。

負載催化劑高速均質(zhì)分散機

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