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二氧化硅溶膠研磨分散機(jī)

二氧化硅溶膠研磨分散機(jī)轉(zhuǎn)子速度可以達(dá)到44m/s。在該速度范圍內(nèi),由剪切力所造成的湍流結(jié)合專門(mén)研制的電機(jī)可以使粒徑范圍小到納米級(jí)。剪切力更強(qiáng),乳液的粒徑分布更窄。

  • 產(chǎn)品型號(hào):XMD2000
  • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • 更新時(shí)間:2023-11-13
  • 訪  問(wèn)  量:3141
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詳細(xì)介紹

二氧化硅溶膠研磨分散機(jī)

硅溶膠為納米級(jí)的二氧化硅顆粒在水中或溶劑中的分散液。由于硅溶膠中的SiO2含有大量的水及羥基,故硅溶膠也可以表述為2O。制備硅溶膠有不同的途徑。 常用的方法有離子交換法、硅粉一步水解法、硅烷水解法等。 硅溶膠屬膠體溶液,無(wú)臭、 。硅溶膠為納米級(jí)的二氧化硅顆粒在水中或溶劑中的分散液。由于硅溶膠中的SiO2含有大量的水及羥基,故硅溶膠也可以表述為2O。

硅溶膠無(wú)機(jī)高分子涂料是近幾年發(fā)展起來(lái)的。制備該涂料的關(guān)鍵技術(shù)是

硅溶膠

用特殊的方法除去水玻璃中水溶性的鈉離子。一般可以用離子交換、酸中和、水分解、電滲析等方法來(lái)實(shí)現(xiàn),以生成一種極細(xì)的二氧化硅超微粒子膠狀水溶液,粒徑為580nm(一般乳液顆粒為800-1000nm)其中Si2O含量20%-30%,Na2O含量0.3%¥,氧化硅和氧化鈉的比例在40%以上。以這種硅溶液/膠為基料,配合顏料和各種助劑而制成硅溶膠無(wú)機(jī)高分子涂料。硅溶液在失去水分時(shí),單體硅酸逐漸聚合成高聚硅膠,隨水分的蒸發(fā),膠體分子增大,最后形成-SIO-O-SIO-涂膜:IO-SI-OH+HO-SI-OH因NA2O在硅溶膠中的含量低,硅溶膠具有一定量成膜溶解的特性,其耐水性、耐熱性能明顯 有機(jī)涂料。涂膜致密且較硬,不產(chǎn)生靜電,空氣中各種塵埃難粘附。在建筑涂料中,它的抗污染能力是較強(qiáng)的。

細(xì)微的顆粒,對(duì)基層有較強(qiáng)的滲透力,能通過(guò)毛細(xì)管滲透到基層內(nèi)部,并能與混凝土基層中的氫氧化鈣反應(yīng)生成硅酸鈣,使涂料具有較強(qiáng)的粘結(jié)力。

但硅溶膠在成膜過(guò)程中體積收縮較大,涂膜易開(kāi)裂。硅溶膠能與丙烯酸酯、醋酸乙烯等乳液任意相溶。兩者的特性相互補(bǔ)充,可以配制出性能優(yōu)良的有機(jī)、無(wú)機(jī)復(fù)合涂料。

一種高抗凍性能硅溶膠的制備方法,是以硅粉水解法制得的硅溶膠產(chǎn)品為原料制得,所述原料中二氧化硅質(zhì)量分?jǐn)?shù)為17 — 31%,氧化鈉質(zhì)量分?jǐn)?shù)為0.25-0.45%,pH值為8.5-9.5,膠粒粒徑為8-20納米。

步驟如下:

(1)將 型陽(yáng)離子交換樹(shù)脂裝柱,按下述方法處理:先用去離子水清洗離子交換樹(shù)脂3-5次;再用4-5wt%的HCl溶液浸泡2-4小時(shí),然后用去離子水淋洗至出水呈中性;改用4-5wt% NaOH溶液繼續(xù)浸泡2_4小時(shí),并用去離子水洗至出水呈中性; 重復(fù)上述方法處理2-3次,每次HCl溶液和NaOH溶液的體積用量均為樹(shù)脂體積的2_3倍;最后,用4-5wt%的HCl溶液浸泡樹(shù)脂2-4小時(shí),放盡HCl溶液后,用去離子水淋洗至出水呈中性。

(2)將濃度為6-8wt%的氯化銨溶液注入處理好的離子交換樹(shù)脂柱內(nèi),浸泡1-2小時(shí)后放盡氯化銨溶液,再用去離子水淋洗至出水pH4.5-5.5。

(3)將原料注入步驟(2)處理好的離子交換樹(shù)脂柱內(nèi),使原料離子轉(zhuǎn)型反應(yīng)0.5-5h,得含有銨鹽的硅溶膠;所述的含有銨鹽的硅溶膠PH2-4 。

(4)將步驟(3)得到的含有銨鹽的硅溶膠攪拌狀態(tài)下加入氫氧化鋰懸浮溶液,所述的氫氧化鋰的加入量為含有銨鹽的硅溶膠質(zhì)量的0.04-0.1%,所述氫氧化鋰懸浮溶液的濃度為3-5wt%,調(diào)整pH值在8.5-9.5之間,再攪拌10-20分鐘,即得高抗凍性能硅溶膠。

XMD2000系列研磨分散機(jī)的結(jié)構(gòu):研磨式分散機(jī)是由錐體磨,分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品。

第yi級(jí)由具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級(jí)都可以改變方向。

第二級(jí)由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計(jì)的不同主要是因?yàn)?在對(duì)輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類(lèi)型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個(gè)很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例,依據(jù)以前的經(jīng)驗(yàn)工作頭來(lái)滿 足一個(gè)具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下,機(jī)器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的,因而它對(duì)制造出zui終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。

以下為型號(hào)表供參考:

型號(hào)

標(biāo)準(zhǔn)流量

L/H

輸出轉(zhuǎn)速

rpm

標(biāo)準(zhǔn)線速度

m/s

馬達(dá)功率

KW

進(jìn)口尺寸

出口尺寸

XMD2000/4

400

18000

44

4

DN25

DN15

XMD2000/5

1500

10500

44

11

DN40

DN32

XMD2000/10

4000

7200

44

22

DN80

DN65

XMD2000/20

10000

4900

44

45

DN80

DN65

XMD2000/30

20000

2850

44

90

DN150

DN125

XMD2000/50

60000

1100

44

160

DN200

DN150

二氧化硅溶膠研磨分散機(jī)

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