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產(chǎn)品展示/ Product display

您的位置:首頁  /  產(chǎn)品展示  /    /  分散機(jī)  /  GMD2000氮化物研磨分散機(jī)

氮化物研磨分散機(jī)

氮化物研磨分散機(jī),SGN納米氫氧化鎂研磨式分散機(jī),是由膠體磨+高剪切分散機(jī)組成,形成一體化的設(shè)備,先研磨后分散,避免物料團(tuán)聚。

  • 產(chǎn)品型號:GMD2000
  • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • 更新時(shí)間:2024-07-08
  • 訪  問  量:358
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詳細(xì)介紹

氮化物研磨分散機(jī),氮化物分散機(jī),氮化物高速分散機(jī),氮化物納米分散機(jī),氮化物超細(xì)分散機(jī)


氮化物,氮化物是一類氮的化合物,其中氮顯-3價(jià)。包括金屬氮化物、非金屬氮化物和氨(NH3,氮負(fù)三價(jià)),習(xí)慣上將氨作為一種特殊物質(zhì),不列入氮化物中。金屬氮化物的熱穩(wěn)定性高,可用作高溫絕緣材料。非金屬氮化物的熱穩(wěn)定性也比較高,各具特殊性質(zhì)。六方氮化硼是優(yōu)良潤滑劑;而立方氮化硼硬度大,可用來制車刀、鉆頭等。


氮化物的應(yīng)用和氧化物的應(yīng)用都需要將粉體物料均勻的分散到液體介質(zhì)當(dāng)中,需要進(jìn)行研磨分散細(xì)化,SGN分散設(shè)備采用特殊的內(nèi)部結(jié)構(gòu),將研磨機(jī)和分散機(jī)合二為一,物料可以實(shí)現(xiàn)一步到位的研磨分散處理,氮化物漿料分散采用SGN研磨分散設(shè)備可以獲得均勻的漿料體系,并且物料粒徑一般可細(xì)化至DN90≤1μm。

 氮化物研磨分散機(jī)

SGN研磨式分散機(jī),將膠體磨和分散機(jī)一體化結(jié)合,先研磨后分散機(jī),解決團(tuán)聚問題!


GMD2000系列研磨式分散設(shè)備是SGN(上海)公司經(jīng)過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產(chǎn)品,該機(jī)特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級高剪切均質(zhì)乳化機(jī)進(jìn)行改裝,我們將三級變跟為一級,然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭,使物料可以先經(jīng)過膠體磨細(xì)化物料,然后再經(jīng)過乳化機(jī)將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據(jù)物料要求進(jìn)行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供客戶選擇)
             

GMD2000系列研磨式分散機(jī)的特點(diǎn):

①   線速度很高,剪切間隙非常小,當(dāng)物料經(jīng)過的時(shí)候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說的濕磨

②   定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細(xì)度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。

③   定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離

④   在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。

⑤   高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。


氮化物研磨分散機(jī)


GMD2000系列研磨分散機(jī)設(shè)備選型表


型號

流量

L/H

轉(zhuǎn)速

rpm

線速度

m/s

功率

kw

入/出口連接

DN

GMD2000/4

300

9000

23

2.2

DN25/DN15

GMD2000/5

1000

6000

23

7.5

DN40/DN32

GMD2000/10

2000

4200

23

22

DN80/DN65

GMD2000/20

5000

2850

23

37

DN80/DN65

GMD2000/30

8000

1420

23

55

DN150/DN125

GMD2000/50

15000

1100

23

110

DN200/DN150

1.表中上限處理量是指介質(zhì)為“水"的測定數(shù)據(jù)。

2.處理量取決于物料的粘度,稠度和zui終產(chǎn)品的要求。

3.如高溫,高壓,易燃易爆,腐蝕性等工況,必須提供準(zhǔn)確的參數(shù),以便選型和定制。

4.本表的數(shù)據(jù)因技術(shù)改動,定制而不符,正確的參數(shù)以提供的實(shí)物為準(zhǔn).

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